在真空中应用蒸镀、离子镀、溅射等物理方法产品金属离子，这些金属离子在工件表面沉积，形成金属涂层，或与反应器反应形成化合物涂层，这种处理工艺方法称为物理气相沉积，简称 PVD 法。此方法沉积温度低，处理温度 400~600℃，变形小，对零件的基体组织及性能影响小。利用 PVD 法在 W18Cr4V 制造的针阀上沉积 TiN 层，而 TiN 层有极高的硬度（2500~3000HV）和高耐磨性，提高了阀门抗腐蚀性，在稀的盐酸、硫酸、硝酸中不受侵蚀，能保持光亮表面。PVD 处理后覆盖层精度很好。可研磨抛光，其表面粗糙度为 Ra0.8µm，抛光后可达到 0.01µm。